基于SiN/Si双层波导的高功率偏振旋转合束器

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基于SiN/Si双层波导的高功率偏振旋转合束器
申请号:CN202410775967
申请日期:2024-06-17
公开号:CN118584587A
公开日期:2024-09-03
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种基于SiN/Si双层波导的高功率偏振旋转合束器,包括偏振旋转器与模式复用器;偏振旋转器包括依次设置的硅衬底层、设于硅衬底层一侧的SiO2包层、以及均设于SiO2包层内的薄硅层与SiN层;薄硅层与SiN层间隔预设距离;模式复用器用于通过模式复用技术将两束TE0模式光合并在在一根波导中后进入偏振转换器。本发明通过在SiN波导的包层中增加薄硅层打破波导垂直方向的对称性,实现TE与TM模式之间的转换,从而基于SiN/Si双层波导结构实现SiN波导中的光场偏振旋转。采用薄硅层打破波导垂直方向对称性的同时,SiN层耦合至下方Si波导中的光功率极低,不影响整个芯片的高功率承载能力,因而支持芯片进行大功率信号的处理。
技术关键词
合束器 模式复用技术 偏振旋转器 高功率 偏振转换器 复用器 绝热耦合 衬底层 终点 波导结构 硅衬底 端口 大功率 芯片 单层 弯曲 信号
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