用于版图处理的方法、设备和介质

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用于版图处理的方法、设备和介质
申请号:CN202410791946
申请日期:2024-06-18
公开号:CN118363253B
公开日期:2024-12-03
类型:发明专利
摘要
根据本公开的示例实施例提供了用于版图处理的方法、设备和介质。在该方法中,获取与参考版图中的至少一个图形段相对应的编码表示。编码表示用于表征至少一个图形段所处的版图环境。通过对参考版图的光刻成像仿真确定分别对至少一个图形段进行修正的至少一个修正量。基于所述至少一个图形段相对应的编码表示和至少一个修正量,构建用于光学邻近效应修正的修正信息集。以此方式,可以参考所构建的修正信息集来对版图图案中的待修正图形进行修正。
技术关键词
版图图案 光学邻近效应修正 版图图形 电子设备 处理单元 特征提取模型 成像 光刻 可读存储介质 存储器 图像 指令 关系 计算机 处理器 数据
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