摘要
本发明公开了一种快速检测二维材料中缺陷的方法,涉及半导体技术领域,成型用于缺陷检测的样品,样品自下而上依次为衬底、二维材料和修饰层;样品成型以及二维材料的缺陷检测方法具体为:步骤一、将选定的衬底放入沉积设备中,以沉积出待检测的二维材料;步骤二、将待检测的二维材料放入ALD中,利用ALD设备在待检测的二维材料表面沉积氧化物,将沉积的氧化物作为修饰层;步骤三、获取带有修饰层的样品图像,对样品图像进行图像处理,得到样品中二维材料的缺陷类型以及缺陷密度;该快速检测二维材料中缺陷的方法可以快速实现二维材料定性以及定量的缺陷检测。
技术关键词
检测二维材料
沉积设备
清洁气体
缺陷检测方法
原子层沉积系统
扫描电子显微镜
原子力显微镜
边缘检测算法
图像处理
清洗衬底
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脉冲
密度
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