基于神经网络的计算大口径光学元件抛光驻留时间方法

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正文
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基于神经网络的计算大口径光学元件抛光驻留时间方法
申请号:CN202410801866
申请日期:2024-06-20
公开号:CN118364248B
公开日期:2024-09-24
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光学加工技术领域,尤其涉及一种基于神经网络的计算大口径光学元件抛光驻留时间方法,首先获得离散化的待加工工件的初始面形残差、去除函数以及抛光轨迹上的驻留点;将初始面形残差转换为符合驻留点分布的第一面形差,由去除函数和全一驻留时间矩阵计算的第二面形差;根据初始面形残差和去除函数计算在所有的驻留点的驻留时间分布;利用第一面形差、第二面形差和驻留时间分布对构建的双通道卷积神经网络进行训练,得到驻留时间预测网络模型;最后利用此网络模型对新的待加工工件加工的驻留时间分布进行预测;本发明利用神经网络挖掘面形残差、去除函数、抛光轨迹和驻留时间分布的内在关系,进而实现迅速获得待加工工件驻留时间分布。
技术关键词
驻留时间分布 大口径光学元件 预测网络模型 工件 融合特征 抛光 矩阵 轨迹 数据 干涉仪 坐标 模块 因子 关系 参数 尺寸
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