一种应用于光刻的曲型掩模优化方法

本发明提供一种应用于光刻的曲型掩模优化方法，能够降低参数化曲型掩模优化工艺的计算复杂度和曲型掩模的数据量。该方法具体过程为：初始化掩模图形，采用等间隔轮廓采样获取初始掩模控制顶点坐标矩阵D；依据目标函数迭代更新掩模控制点坐标D，优化曲型掩模结构；利用节点消去算法去除掩模图形中包含的冗余控制顶点，更新掩模控制顶点坐标矩阵D；输出掩模控制顶点坐标矩阵D，获得最终曲型掩模图形。