模型训练方法、缺陷分类方法、电子设备和存储介质

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模型训练方法、缺陷分类方法、电子设备和存储介质
申请号:CN202410831711
申请日期:2024-06-25
公开号:CN118608868A
公开日期:2024-09-06
类型:发明专利
摘要
本申请公开一种模型训练方法、缺陷分类方法、电子设备和存储介质,应用于包括注意力掩膜分支模块、缺陷特征语义模块和分类模块的第一缺陷分类模型,训练方法包括:获取带有缺陷标签的缺陷图像和对应的设计图像;基于缺陷图像和设计图像,获取融合图像;利用注意力掩膜分支模块获取与融合图像对应的第一掩膜图像;利用缺陷特征语义模块对融合图像和第一掩膜图像进行图像处理,得到缺陷局部形态特征图和缺陷相对位置特征图;利用分类模块对缺陷局部形态特征图和缺陷相对位置特征图进行缺陷预测,得到预测结果;基于预测结果与缺陷标签,对第一缺陷分类模型进行模块参数调整,得到最终的缺陷分类模型。提供一种对缺陷图像进行缺陷识别的模型。
技术关键词
掩膜 缺陷分类方法 多层感知机 注意力 图像处理 乘法器 模块 模型训练方法 缺陷预测 存储计算机程序 语义 检测缺陷 通道 分支 标签 电子设备 形态 可读存储介质 融合器
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