半导体存储器件及其制造方法

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半导体存储器件及其制造方法
申请号:CN202410840948
申请日期:2024-06-27
公开号:CN118380412B
公开日期:2024-09-24
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种半导体存储器件及其制造方法,该半导体存储器件包括第一芯片、第一介质块和第一导电柱,第一介质块沿第一方向贯穿所述第一芯片,所述第一介质块的材料包括玻璃,第一导电柱沿所述第一方向贯穿所述第一介质块。本申请通过在第一导电柱和第一芯片之间设置第一介质块,使第一导电柱形成在第一介质块中,并且第一介质块采用玻璃材料,而玻璃材料的膨胀系数相比于硅材料更低,可以减小热应力,因此可以提高器件可靠性和产品良率。
技术关键词
半导体存储器件 导电柱 玻璃转接板 介质 芯片 导电层 玻璃材料 基板 衬底 控制电路 凸块 氮化钛 二氧化硅 良率 通孔
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