光注入退火设备及其控制方法

本申请提供一种光注入退火设备及其控制方法，光注入退火设备包括：真空腔体；载板，用于放置基片；光辐照组件，用于对基片进行辐照；测温组件，用于采集基片的实际温度；加热组件，用于对基片进行加热；控制系统，用于根据基片的实际温度与预设的目标温度，控制加热组件工作；水冷组件，用于以确定的目标流量对基片进行降温。加热组件发出的可控的热量与光辐照组件产生的不可控的热量在基片上叠加，同时水冷组件可以带走基片上的热量，起到散热的作用，避免基片不可控地持续升温导致过热，进而可以将基片的实际温度与预设的目标温度之间的差值控制在合理范围内，达到温度精确控制、提高退火效果的技术效果。