半导体器件芯片、其制造方法、半导体器件及电子设备

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半导体器件芯片、其制造方法、半导体器件及电子设备
申请号:CN202410841865
申请日期:2024-06-27
公开号:CN118398657B
公开日期:2024-11-29
类型:发明专利
摘要
一种半导体器件芯片、其制造方法、半导体器件及电子设备,属于功率半导体器件制造领域。所述半导体器件芯片包括门极,所述门极上具有不同于沟槽栅和隔离沟槽的沟槽结构;所述半导体器件芯片为电子和空穴均以扩散原理导通的双极半导体器件芯片,或者晶闸管芯片。本发明的具有门极沟槽结构的半导体器件可以解决如开关速度慢、漏电流大、电流承受能力低等至少一个技术问题,在开关速率、大电流关断、门极寄生参数优化、门极均流等至少一个方面有显著的提升效果,门极关断时间可减小10%到50%,电场峰值下降了15%,门极汇流过程中的寄生电感的参数也明显降低,汇流能力明显增大。
技术关键词
半导体器件芯片 沟槽结构 高台结构 阴极 终端结构 金属掺杂 金属电极层 晶闸管芯片 双面 电子设备 斜角结构 台面高度 关断时间 功率半导体器件 硼磷硅玻璃 表面钝化层 类金刚石碳
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