一种基于反步滑膜控制的伺服系统位置跟踪控制方法

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一种基于反步滑膜控制的伺服系统位置跟踪控制方法
申请号:CN202410879197
申请日期:2024-07-02
公开号:CN118868690A
公开日期:2024-10-29
类型:发明专利
摘要
本发明一种基于反步滑模控制的伺服系统位置跟踪控制方法,包括以下步骤:根据定义的位置跟踪误差变量设计积分滑模面,对滑模面两次求导,得到基于状态变量的系统动力学二阶状态空间模型,将系统动力学二阶状态空间模型转化为基于所选滑动面的三阶状态空间模型,结合反步控制策略,设计反步滑模控制器;结合可测的转子实际位置信息,实现对伺服系统不可测扰动的估计,基于扰动估计值,得到基于线性扩张状态观测器的反步滑模控制器;接收所述基于线性扩张状态观测器的反步滑模控制器输出的参考电流,PI控制器输出参考电压;参考电压信号经过磁场矢量控制的处理步骤,最终生成电机的控制信号,实现伺服系统位置跟踪控制。
技术关键词
反步滑模控制 状态空间模型 转子 误差函数 位置跟踪 伺服系统位置 位置控制器 同步电机 生成电机 控制策略 观测器 定义 数学模型 变量 定子
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