基于原子级精度制造的化学气相沉积自动化分析系统

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基于原子级精度制造的化学气相沉积自动化分析系统
申请号:CN202410923459
申请日期:2024-07-10
公开号:CN118773586B
公开日期:2025-01-21
类型:发明专利
摘要
本发明涉及材料分析技术领域,具体涉及基于原子级精度制造的化学气相沉积自动化分析系统,包括工艺控制模块、工艺优化模块、优化修订模块、指令发送模块、质量监测模块、数据存储模块以及用户界面模块,其中;所述工艺控制模块,用于根据控制指令设定和调整化学气相沉积过程中的工艺参数;所述工艺优化模块,用于对采集到的工艺数据进行实时分析,生成第一工艺优化建议;所述优化修订模块,对沉积材料的物理和化学特性进行分析,得到修订后的第二工艺优化建议。本发明,利用高斯过程模型量化不确定性,高效搜索最优工艺参数组合,通过这一创新,显著提高了工艺优化的效率和精度。
技术关键词
自动化分析系统 数据采集器 控制模块 分析单元 参数 气相 数据存储模块 X射线衍射方法 能量色散X射线 基底 多元线性回归模型 监测模块 效应测试方法 材料分析技术 旋转控制单元 气体流量控制 压力控制单元 温度控制单元
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