摘要
本申请涉及半导体去胶技术领域,提出了一种去胶剥离机的去胶调控方法及系统,包括:获取表面形貌点云数据集;基于表面形貌点云数据集的投影结果获取单晶圆裸片数据点集合,基于每个超体素中数据点反映的几何特征确定局部削减指数;基于局部消减凹陷因子以及发生削减现象时每个超体素中数据点受到噪声的影响程度确定削减损伤影响指数;基于削减损伤影响指数以及局部削减指数确定半径适应值,采用均值滤波算法基于所述半径适应值得到纯净形貌点云数据集;采用LSTM模型基于纯净形貌点云数据集得到去胶剥离机的最优去胶参数,完成对去胶剥离机的调控。本申请通过优化滤波算法得到调控模型的输入数据,降低噪声对去胶剥离机的调控影响。
技术关键词
剥离机
数据
指数
调控方法
LSTM模型
单晶
阈值分割算法
半导体去胶技术
集中度
曲面
极值
滤波算法
因子
噪声
参数
坐标系
分子
点云空间
系统为您推荐了相关专利信息
智能监管系统
员工
生理体征数据
特征值
生理体征监测
智能管理工具
电网运行风险
电网运行数据
深度学习模型
物联网传感器网络
多臂赌博机
平台
移动群智感知系统
周期
信任评估机制
溯源系统
全生命周期数据
智能合约验证
拜占庭容错
集成温湿度传感器