双重扫描式离子植入系统

本发明涉及双重扫描式离子植入系统。依据本发明一个实施例的双重扫描式离子植入系统包括：处理腔，进行离子束扫描；第一及第二扫描机器人，配置在所述处理腔内部；及，设备前端模块(EFEM)，设于所述处理腔一侧，安装复数个晶片盒；处理腔内部的第一及第二扫描机器人各自通过不重叠的不同晶片扫描移送路径从所述设备前端模块(EFEM)接受晶片后，所述第一及第二扫描机器人交替进行离子束扫描。