一种基于UDS的KDP晶体表面过饱和度模拟计算方法

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一种基于UDS的KDP晶体表面过饱和度模拟计算方法
申请号:CN202411015596
申请日期:2024-07-26
公开号:CN118886220B
公开日期:2025-03-21
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种基于UDS的KDP晶体表面过饱和度模拟计算方法,涉及晶体生长数值模拟技术领域,包括:建立晶体生长槽物理几何模型,对物理几何模型进行网格划分后,导入至Fluent仿真软件;基于用户自定义标量方程UDS,耦合流体湍流、能量方程,建立KDP晶体生长系统溶质传输方程;基于KDP晶体表面溶质反应边界条件,编写用户自定义函数UDF,并基于用户自定义存储UDM,存储KDP溶液平衡浓度,挂载平衡浓度随温度变化的自定义函数,以此构造晶体表面生长速率自洽函数;耦合所建立的方程及函数,建立KDP晶体生长系统的数学模型,设置数学模型的计算域条件及边界条件,计算求解得到KDP晶体生长系统的过饱和度分布。
技术关键词
模拟计算方法 晶体生长系统 晶体生长槽 自定义函数 饱和度 KDP晶体 数学模型 方程 仿真软件 溶液 非结构化网格 晶面 数值模拟技术 速率 物理 位错机制 绝热壁面
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