切割带、切割芯片接合薄膜和半导体装置的制造方法

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切割带、切割芯片接合薄膜和半导体装置的制造方法
申请号:CN202411020068
申请日期:2024-07-29
公开号:CN119447003A
公开日期:2025-02-14
类型:发明专利
摘要
本发明涉及切割带、切割芯片接合薄膜和半导体装置的制造方法。提供一种切割带等,其具备基材层、以及重叠于该基材层的单面的粘合剂层,前述基材层具有层叠的多个层,作为该多个层,至少具有包含乙烯‑丙烯酸共聚树脂的第一基材层和包含除前述乙烯‑丙烯酸共聚树脂之外的树脂的第二基材层,在前述第一基材层与前述粘合剂层之间配置有前述第二基材层。
技术关键词
切割芯片接合薄膜 基材 半导体装置 共聚树脂 储能模量 半导体晶圆 接合片 粘合剂层 丙烯酸 乙酸乙烯酯 半导体芯片 单面 层叠 顶点 加热
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