一种倒装发光二极管芯片及其制备方法

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一种倒装发光二极管芯片及其制备方法
申请号:CN202411034871
申请日期:2024-07-31
公开号:CN118588824B
公开日期:2024-10-25
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种倒装发光二极管芯片及其制备方法,其中倒装发光二极管芯片的制备方法包括:提供一衬底,在衬底上制备第一半导体层;在第一半导体层上制备第一导电金属层;在第一半导体层以及第一导电金属层上制备布拉格反射层以及布拉格反射通孔;在布拉格反射层以及布拉格反射层通孔上制备第二导电金属层,第二导电金属层包括自下而上依次设置的反射子层、保护子层、导电子层以及阻挡BOE子层;在布拉格反射层以及第二导电金属层上制备第一绝缘层以及第一绝缘层通孔,第一绝缘层通孔的直径≤3um且角度≤30°;在第一绝缘层和第一绝缘层通孔上制备第二半导体层。
技术关键词
布拉格反射层 倒装发光二极管芯片 导电金属层 P型GaN层 半导体层 电流扩展层 通孔 表面涂布 有源发光层 光刻胶表面 负性光刻胶 电感耦合等离子体 衬底上外延生长 湿法腐蚀工艺 电子束 气相沉积工艺
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