全反射光学系统畸变控制的方法

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全反射光学系统畸变控制的方法
申请号:CN202411042770
申请日期:2024-07-31
公开号:CN118838053A
公开日期:2024-10-25
类型:发明专利
摘要
本发明属于高光谱成像技术领域,尤其涉及一种全反射光学系统畸变控制的方法。包括:S1:构建同轴反射式光学系统,并确定同轴反射式光学系统的主光线误差与同轴反射式光学系统的波前畸变系数之间的函数关系;S2:计算同轴反射式光学系统的主光线误差,并根据步骤S1建立的函数关系和主光线误差计算同轴反射式光学系统的畸变值;S3:构建同轴反射式光学系统的Seidel像差系数与同轴反射式光学系统的系统参数之间的多维度非线性方程组;S4:基于步骤S3建立的多维度非线性方程组构建误差函数,并利用差分进化算法和畸变值对误差函数进行求解,获得带有特定畸变值的初始全反射光学系统。本发明能够解决光谱仪的曲线弯曲校正困难的问题。
技术关键词
光学系统畸变 镜子 非线性方程组 误差函数 进化算法 高光谱成像技术 矩阵 表达式 镜面 探测器 参数 关系 光谱仪 变量 反射光 软件 间距
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