沟槽型器件的良率预测方法、装置及存储介质、设备

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正文
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沟槽型器件的良率预测方法、装置及存储介质、设备
申请号:CN202411055612
申请日期:2024-08-01
公开号:CN118861575A
公开日期:2024-10-29
类型:发明专利
摘要
一种分离栅沟槽型器件的良率预测方法,所述分离栅沟槽型器件包括分离栅沟槽及栅极沟槽,所述分离栅沟槽用于形成屏蔽栅,所述栅极沟槽用于形成控制栅;其特征在于,所述方法包括:获取所述分离栅沟槽的平整度偏差值及所述栅极沟槽的平整度偏差值;将所述分离栅沟槽的平整度偏差值及所述栅极沟槽的平整度偏差值,输入至预设支持向量机模型进行良率预测,得到良率预测结果;输出良率预测结果。采用上述方案,可以预测分离栅沟槽型器件的良率。
技术关键词
沟槽型器件 平整度偏差 栅极沟槽 支持向量机模型 屏蔽栅 良率预测装置 沟槽侧壁 处理器 可读存储介质 存储器 电子设备 计算机
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