一种基于最小矩形像素堆叠的光刻掩膜优化方法及系统

本申请公开了一种基于最小矩形像素堆叠的光刻掩膜优化方法及系统，方法包括：构建基于部分相干光源的光刻系统成像模型；构建基于最小矩形像素堆叠的BSN模型；将光刻系统成像模型与BSN模型进行组合，并确定逆光刻损失函数，构建自监督神经网络模型；对自监督神经网络模型进行优化训练，得到优化后的自监督神经网络模型；基于优化后的自监督神经网络模型，分离获取优化后的BSN模型，并将待优化掩膜输入至BSN模型，得到光学邻近效应校正优化掩模的输出结果。本申请实施例能够大幅度降低掩膜的复杂度。本申请可以广泛应用于光刻掩膜技术领域。