仿生复眼模板及其制备方法、高光提取效率的深紫外LED芯片的出光结构及其制备方法

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仿生复眼模板及其制备方法、高光提取效率的深紫外LED芯片的出光结构及其制备方法
申请号:CN202411062200
申请日期:2024-08-02
公开号:CN118983381A
公开日期:2024-11-19
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种应用了仿生复眼结构的深紫外LED芯片出光结构及制备方法,方法包括在深紫外LED芯片的出光面表面涂覆一层纳米压印胶,以在所述出光面表面形成涂胶面;将仿生复眼模板压印在所述涂胶面上,待固化后剥离所述仿生复眼模板,以在深紫外LED芯片的出光面制备形成仿生复眼结构阵列。本发明实施例还公开了该仿生复眼模板的结构及其制备方法。本发明的方案能够有效提高深紫外LED芯片的光提取效率和使用寿命,且制作工艺简单,工艺成本低,适于大规模生产制造。
技术关键词
仿生复眼结构 高光提取效率 深紫外LED芯片 微米孔 模板 飞秒激光刻蚀 透镜单元 阵列 纳米压印胶 蜂窝结构 凸面 涂胶 出光结构 基板 离子束 涂覆
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