摘要
本发明涉及芯片制备技术领域,具体涉及提升防电极迁移能力的芯片制备方法,包括在衬底上依次制备外延片、N‑GaN台阶、透明导电层、电极层、电极保护界面层及钝化绝缘层;所述钝化绝缘层采用多层复合材料制备,有效提高了芯片的防电迁移和抗腐蚀能力。
技术关键词
透明导电层
GaN层
电极
多层复合材料
芯片
多量子阱层
ICP刻蚀技术
MOCVD技术
生长外延片
磁控溅射设备
P型掺杂剂
外延片表面
三甲基铟
刻蚀方式
蒸镀设备
衬底
光刻胶
三甲基铝
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