提升防电极迁移能力的芯片制备方法

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提升防电极迁移能力的芯片制备方法
申请号:CN202411064698
申请日期:2024-08-05
公开号:CN119133336A
公开日期:2024-12-13
类型:发明专利
摘要
本发明涉及芯片制备技术领域,具体涉及提升防电极迁移能力的芯片制备方法,包括在衬底上依次制备外延片、N‑GaN台阶、透明导电层、电极层、电极保护界面层及钝化绝缘层;所述钝化绝缘层采用多层复合材料制备,有效提高了芯片的防电迁移和抗腐蚀能力。
技术关键词
透明导电层 GaN层 电极 多层复合材料 芯片 多量子阱层 ICP刻蚀技术 MOCVD技术 生长外延片 磁控溅射设备 P型掺杂剂 外延片表面 三甲基铟 刻蚀方式 蒸镀设备 衬底 光刻胶 三甲基铝 二茂镁
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