光学元件中频误差对成像系统像质影响的快速预测方法

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光学元件中频误差对成像系统像质影响的快速预测方法
申请号:CN202411071019
申请日期:2024-08-06
公开号:CN118641157B
公开日期:2024-10-18
类型:发明专利
摘要
本发明涉及误差对系统质量影响预测技术领域,尤其涉及一种光学元件中频误差对成像系统像质影响的快速预测方法。包括:确定成像系统结构参数;实际搭建初始理想成像系统,装调,记录所有光学元件中频误差信息;测定成像系统像质量评价参数并记录;将某一光学元件进行替换,使得表面中频误差不一致,记录中频误差信息以及在系统中的结构参数;测定像质量评价参数并记录;重复上述步骤,得到误差信息数据集和像质信息数据集;构建Transformer网络,将数据集输入后进行训练,得到预测网络模型;将待预测光学元件安装至成像系统中,获取中频误差信息并输入至预测网络模型中,预测其对成像系统的像质影响。优点在于:计算耗时少,预测快速。
技术关键词
光学元件中频误差 误差信息 预测网络模型 成像系统结构 指数 数据 低频面形 点扩散函数 周期误差 相位误差 样条 超参数 校正 偏差 数值
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