摘要
本发明提供一种光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法,测量方法包括:提供光阻层,在光阻层定义出目标光阻图形,目标光阻图形上设置有锚定点;依据定义的目标光阻图形对光阻层进行曝光显影,以形成具有锚定点的实际光阻图形;基于实际光阻图形的锚定点位置确定目标光阻图形的目标边缘;通过测量获取实际光阻图形的实际边缘;基于实际边缘与目标边缘的间距,获取实际光阻图形的光阻消退量。本发明基于锚定点可以获取光阻图形准确的目标边缘,及通过测量获得光阻图形的实际边缘后,通过实际边缘与目标边缘的间距,可以准确获得光阻图形的实际光阻消退量。
技术关键词
光阻图形
测量方法
光学邻近修正方法
锚定点
光学邻近修正模型
桥结构
光刻工艺
间距
制程
尺寸
纳米
定义
参数
错位
数据