光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法

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光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法
申请号:CN202411085436
申请日期:2024-08-08
公开号:CN118838127B
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法,测量方法包括:提供光阻层,在光阻层定义出目标光阻图形,目标光阻图形上设置有锚定点;依据定义的目标光阻图形对光阻层进行曝光显影,以形成具有锚定点的实际光阻图形;基于实际光阻图形的锚定点位置确定目标光阻图形的目标边缘;通过测量获取实际光阻图形的实际边缘;基于实际边缘与目标边缘的间距,获取实际光阻图形的光阻消退量。本发明基于锚定点可以获取光阻图形准确的目标边缘,及通过测量获得光阻图形的实际边缘后,通过实际边缘与目标边缘的间距,可以准确获得光阻图形的实际光阻消退量。
技术关键词
光阻图形 测量方法 光学邻近修正方法 锚定点 光学邻近修正模型 桥结构 光刻工艺 间距 制程 尺寸 纳米 定义 参数 错位 数据
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