半导体器件及其制备方法、芯片、电子设备

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半导体器件及其制备方法、芯片、电子设备
申请号:CN202411099664
申请日期:2024-08-12
公开号:CN118610212B
公开日期:2024-11-05
类型:发明专利
摘要
本公开提供了一种半导体器件及其制备方法、芯片、电子设备,涉及半导体技术领域,旨在解决相关技术中晶体管和HEMT器件需在两片晶圆上分别制备,再将二者封装,导致封装体积大、寄生电感较大的问题。半导体器件包括第一基底层、凸起部、晶体管以及HEMT器件。第一基底层包括第一表面。凸起部设于第一基底层的第一表面上,凸起部包括第一侧壁,第一侧壁所在平面与第一基底层的第一表面所在平面相交。晶体管设于凸起部远离所述第一基底层的一侧。HEMT器件为耗尽型HEMT器件,HEMT器件包括成核层、外延层和势垒层,成核层、外延层和势垒层沿远离第一侧壁方向依次层叠于第一侧壁上。其中,HEMT器件的栅极和晶体管的第一极连接,HEMT器件的源极和晶体管的第二极连接。
技术关键词
HEMT器件 基底层 半导体器件 晶体管 势垒层 栅介质层 栅极 外延 衬底 电子设备 层叠 芯片 电路板 晶面 电感
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