一种传感芯片制备方法、传感芯片及应用

本发明公开了一种传感芯片制备方法、传感芯片及应用，属于传感芯片制备领域，包括以下步骤：S1、制备掩膜图形；S2、制备样片：S21、清洗玻璃基底；S22、在玻璃基底上沉淀金属膜层；S23、在金属膜层上旋涂光刻胶，并进行前烘；S3、用光刻机对样片进行曝光，通过调整曝光剂量，得到多种结构阵列的光刻图形潜像；S4、利用显影液对曝光后的样片进行显影；S5、将光刻图形通过刻蚀传递到金属膜层；S6、去除残留光刻胶。本发明采用上述传感芯片制备方法、传感芯片及应用，仅通过调控曝光剂量范围，即可实现利用一个掩膜圆孔阵列的掩膜图形，制备沟槽形、菱形、三角形、圆形阵列等一系列不同结构类型的传感芯片。