摘要
本申请实施例提供一种集成电路版图识别方法、电子设备及存储介质,所述方法包括:获取集成电路版图中的图形,并对图形进行编码处理,得到集成电路版图的编码信息;基于编码信息,确定集成电路版图中多种图形的单类型投影和单类型投影的重复周期;基于单类型投影的重复周期,确定集成电路版图的潜在阵列区域;基于潜在阵列区域对集成电路版图中的图形进行多类型投影,确定目标重复周期;对潜在阵列区域进行验证,并基于目标重复周期重建集成电路版图层次。本申请实施例采用投影的方式确定集成电路版图中的重复元素,并基于重复元素对版图中的图形进行重新组织,减少了光学临近效应修正的计算量,缩短修正时间,提升了修正效果和修正效率。
技术关键词
集成电路版图
投影特征
滑动窗口
识别方法
阵列
周期
矩形
编码
电子设备
笛卡尔
光学临近效应修正
扫描算法
元素
存储器
计算机
指令
坐标
可读存储介质
处理器
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场景特征
投影特征
集群控制方法
控制策略
集群控制系统
电力设备监测
预警系统
云端大数据分析
光电探测模块
色散补偿光纤
GAN网络模型
深度强化学习
空间结构特征
识别方法
GAN模型
降噪结构
主动降噪系统
风扇叶片
MEMS压力传感器
气隙