基于轨迹和同帧画幅约束的光测脱靶量处理方法及系统

本发明提供一种基于轨迹和同帧画幅约束的光测脱靶量处理方法，主要内容包括同帧画幅角度差计算、空间坐标系到测站坐标系的转换、运动特征参数表示、轨迹速度约束模型构建、脱靶时刻和脱靶量计算；也就是说，本发明同时利用同帧画幅和目标运动轨迹速度约束，综合应用多设备测量数据，对同帧画幅差计算、坐标转换、目标轨迹运动特性表示提取和脱靶量参数化求解模型等关键技术内容进行了阐述，将数据处理问题转化为非线性回归模型的参数估计，从而获取可靠的相遇段脱靶量结果，为光测设备应用发展、空中脱靶量的处理、光测数据的应用提供了一种新的思路与解决方案。