用于分析晶圆表面划痕产生原因的方法、装置、设备和存储介质

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用于分析晶圆表面划痕产生原因的方法、装置、设备和存储介质
申请号:CN202411521283
申请日期:2024-10-29
公开号:CN119671936A
公开日期:2025-03-21
类型:发明专利
摘要
本发明涉及晶圆检测技术领域,公开了用于分析晶圆表面划痕产生原因的方法、装置、设备和存储介质,方法包括:获取表面有划痕的晶圆和与表面有划痕的晶圆对应的化学机械抛光机台输出参数;标注表面有划痕的晶圆的划痕产生原因,得到晶圆的标签信息;基于晶圆、化学机械抛光机台输出参数和标签信息,构建晶圆划痕数据集;构建晶圆划痕产生原因分类模型,基于晶圆划痕数据集训练晶圆划痕产生原因分类模型,在晶圆划痕产生原因分类模型训练完成后,基于晶圆划痕产生原因分类模型分析晶圆表面划痕产生原因。通过训练完成的晶圆划痕产生原因分类模型可以快速且准确地得到晶圆产生划痕的原因。
技术关键词
机械抛光 分类模型训练 机台 标签 晶圆检测技术 参数 可读存储介质 刷子 指令 数据 计算机程序产品 指数 修整器 研磨垫 存储器 处理器 抛光盘 计算机设备
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