图像传感器及其形成方法

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图像传感器及其形成方法
申请号:CN202411541995
申请日期:2024-10-31
公开号:CN119923003A
公开日期:2025-05-02
类型:发明专利
摘要
本公开的各种实施例涉及堆叠互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器。第一集成电路(IC)芯片和第二IC芯片垂直堆叠。像素传感器跨越第一和第二IC芯片。像素传感器包括位于第一IC芯片的第一传输晶体管和光电探测器,还包括位于第二IC芯片的源极跟随器晶体管、晶体管电容器和第二传输晶体管。晶体管电容器和第二传输晶体管从第一传输晶体管的源极/漏极区串联电耦合到源极跟随器晶体管的栅电极。
技术关键词
晶体管 图像传感器 源极跟随器 电容器 有源半导体区 像素 光电探测器 沟槽隔离结构 电耦合 IC芯片 集成电路芯片堆叠 半导体衬底 互补金属氧化物半导体 电极 阶梯轮廓 栅极介电层
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