一种检测光学环境污染沉积的传感器探头的制备方法

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一种检测光学环境污染沉积的传感器探头的制备方法
申请号:CN202411550908
申请日期:2024-11-01
公开号:CN119394840A
公开日期:2025-02-07
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种检测光学环境污染沉积的传感器探头的制备方法,属于污染检测技术领域,包括:将二氧化硅胶体以提拉镀膜的方式涂覆在QCM芯片表面,得到表面带二氧化硅膜的传感器探头,通过传感器探头检测沉积在二氧化硅膜表面的环境污染物面质量密度,实现光学环境有机污染物沉积的检测。本发明制备的传感器探头对分子污染灵敏度高、稳定性好,可以为光学系统内的光学元件损伤进行预警。
技术关键词
传感器探头 二氧化硅胶体 QCM芯片 二氧化硅膜 提拉镀膜 六甲基二硅胺烷 污染检测技术 百级洁净室 中心工作频率 氨水 镀膜夹具 正硅酸乙酯 超声波清洗 密度 涂覆 有机污染 验证方法
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