一种光固化3D打印过程的全向能量场控制方法及系统

本申请涉及光固化控制技术领域，具体涉及一种光固化3D打印过程的全向能量场控制方法及系统，该方法包括：将光固化3D打印过程中校准块矩阵在焦平面的投影照片平均划分为若干个区块；对区块内的所有影像点进行阈值分析，通过纠正区块的形态扩散系数统一各区块内校准块的光扩散程度，平滑缩放得到各像素点在焦平面上相同位置点的形态系数；根据各投影点受到焦平面上经形态系数修正的所有点的光强影响，得到各投影点的实际光强；根据打印过程中切片对各投影点的实际光强的累加情况，得到全向能量场模型，对各层切片的初始光强掩膜进行调整，得到最优光强掩膜。本申请可提高光固化3D打印过程的全向能量场控制精度。