一种手绘纳米涂层画布制备工艺的工序状态检测方法

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一种手绘纳米涂层画布制备工艺的工序状态检测方法
申请号:CN202411589768
申请日期:2024-11-08
公开号:CN119128398B
公开日期:2025-02-28
类型:发明专利
摘要
本发明涉及数据处理技术领域,更具体地,本发明涉及一种手绘纳米涂层画布制备工艺的工序状态检测方法,所述方法包括:获取在画布烘干过程中不同位置的湿度数据,利用改进的IDR算法对湿度数据进行去噪处理,当所有位置的去噪后的湿度数据在持续预设时长内均低于预设湿度阈值,则判定烘干工序完成。其中,改进的IDR算法中获取去噪后的湿度数据的过程为:获取采样时段内任一位置的湿度数据序列与对比序列中对应数据点的噪声表现的差值序列,基于差值序列执行IDR算法迭代更新数据的过程,直到满足预设收敛条件,得到该位置的去噪后的湿度数据序列。本发明可以提高画布工序状态检测的准确性。
技术关键词
状态检测方法 纳米涂层 画布 序列 噪声 湿度传感器 算法 双曲正切函数 误差 邻域 数据处理技术
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