一种基于反射光谱的流场表面压力测量方法

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一种基于反射光谱的流场表面压力测量方法
申请号:CN202411620701
申请日期:2024-11-14
公开号:CN119124444B
公开日期:2025-02-07
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种基于反射光谱的流场表面压力测量方法,涉及高速流场压力测量领域,解决了现有高速流场测压技术的空间分辨率低、破坏流场结构、抗电磁干扰能力弱和稳定性差等问题;方法包括:基于光栅理论中的光栅反常现象,设计一维光栅波导结构器件,对设计完成的一维光栅波导结构器件进行制备;对制备完成的一维光栅波导结构器件进行压力标定,标定完成后将其置入高速流场的试验压力测量系统中,通过一维光栅波导结构器件的反射光谱,进行模型表面的流场压力测量;本发明通过柔性光栅结构的压力敏感机理设计光栅结构,通过反射光谱频率移动实现对高速流场压力的实时测量,对流场干扰小、环境电磁干扰小、装置简洁、测量及维护成本低。
技术关键词
光栅波导结构 表面压力测量方法 光栅结构 飞行器模型 二氧化硅基片 介质 电子束光刻方法 金属剥离方法 柔性材料 PDMS薄膜 抗电磁干扰能力 基底 划片方法 测压技术 预聚物 光谱仪 平板波导 流场结构
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