一种用于碳化硅提纯处理的杂质含量检测方法及系统

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一种用于碳化硅提纯处理的杂质含量检测方法及系统
申请号:CN202411660445
申请日期:2024-11-20
公开号:CN119517208A
公开日期:2025-02-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种用于碳化硅提纯处理的杂质含量检测方法及系统,涉及碳化硅检测技术领域,该方法包括以下步骤:从碳化硅数据库中采集预设数量提纯处理后的碳化硅检测的历史样本;得到基于历史样本的有机杂质数据及无机杂质数据;构建杂质含量预测模型;将实时有机杂质数据及实时无机杂质数据输入至杂质含量预测模型中,得到有机杂质含量及无机杂质含量的预测结果。本发明通过采集碳化硅检测的历史样本,并结合质谱和光谱分析技术,获取更为全面和准确的有机杂质数据和无机杂质数据,不仅涵盖了传统光学光谱分析技术的检测范围,还深入分析杂质成分,从而提供了更为丰富、准确和全面的杂质信息,大大提高了检测的准确性和可靠性。
技术关键词
杂质含量检测方法 无机特征 碳化硅 有机杂质含量 提纯 样本 质谱特征 机器学习算法 光谱分析技术 数据获取模块 X射线荧光光谱法 筛选算法 动态时间规整算法 液质联用法 判别分析法 特征工程 数据编码
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