一种曝光机的多重均分预测对位方法和系统

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一种曝光机的多重均分预测对位方法和系统
申请号:CN202411698161
申请日期:2024-11-26
公开号:CN119179241B
公开日期:2025-02-18
类型:发明专利
摘要
本发明涉及印刷电路板制造技术领域,具体涉及一种曝光机的多重均分预测对位方法和系统,包括以下步骤:S1:通过曝光机获取在不同曝光条件下的多个图像数据;S2:通过逆运动补偿算法对识别出的模糊区域进行图像校正;S3:计算各次曝光图像之间的叠加误差,并对误差进行初步修正;S4:利用自适应光学算子动态调整曝光机的光学参数;S5:对修正后的图像进行迭代融合,通过多次迭代均分处理;S6:将S5中获得的最终对位图像数据传输至曝光机的控制流程中。本发明,通过整合运动数据分析、逆运动补偿、多重均分预测对位算法和光学参数自适应调整技术,显著提高了PCB曝光过程中的图像对位精度和清晰度,从而确保高质量的PCB制造。
技术关键词
叠加误差 对位方法 逆运动补偿 像素点 曝光机 参数 图像采集模块 初始误差 误差修正算法 多通道高精度 图像校正 预定数据格式 加速度 激光位移传感器
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