摘要
本申请公开了一种光学模型的模型参数优化方法、设备、存储介质及产品,方法包括:基于光学模型的预设模型参数构建待测试的图形对应的版图文件;基于版图文件执行光学临近校正和光刻规则检查,得到对应的检查结果;在检查结果不满足检测通过条件的情况下,根据检查结果对光学模型的模型参数进行调整,得到调整后的模型参数;利用调整后的模型参数构建待测试的图形对应的版图文件,并返回执行基于版图文件执行光学临近校正和光刻规则检查,直至检查结果满足检测通过条件。本申请能够基于OPC和LRC的检查结果对模型参数进行迭代优化,改善了光学模型适配调整后的版图在OPC过程中难以校正优化的问题,提升了版图调整效率、流片效率和良率。
技术关键词
模型参数优化方法
版图
计算机程序指令
光刻
校正
计算机程序产品
可读存储介质
处理器
电子设备
存储器
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