晶圆的制备处理方法、晶圆、芯片及电子设备

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晶圆的制备处理方法、晶圆、芯片及电子设备
申请号:CN202411720189
申请日期:2024-11-27
公开号:CN119725116A
公开日期:2025-03-28
类型:发明专利
摘要
本申请属于半导体材料技术领域,提供了一种晶圆的制备处理方法、晶圆、芯片及电子设备,该方法通过对至少两片初始晶圆的结构层执行减薄操作,得到经减薄处理后的至少两片晶圆;根据减薄处理后的至少两片晶圆的结构层,对至少两片晶圆进行晶圆键合处理,得到键合处理后晶圆;对键合处理后晶圆进行封装处理,得到合成晶圆。解决了相关技术中晶圆的制备工艺不佳,导致晶圆的实际利用率较低的技术问题。
技术关键词
晶圆 半导体材料技术 电子设备 引线 电子芯片 布局 处理器 布线 存储器 凸点 数据 通孔
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