一种高精量测系统中的自动聚焦的方法

本发明涉及半导体高精密设备的量测领域，更具体的说，涉及一种高精量测系统中的自动聚焦的方法。通过高精成像设备获取待测图像，将所述待测图像设置AOI区域；根据所述待测图像的AOI区域图像绘制掩模区域，用于得到待测目标图像，所述待测目标图像包括多个子目标图像；根据所述待测目标图像，获取AOI区域图像清晰度最大值对应的位置；根据所述AOI区域清晰度最大值对应的位置，获得所述待测图像的聚焦位置，高精成像设备在所述聚焦位置采集图像。本发明通过采用局部聚焦功能，掩模功能和多项式拟合方式，不仅提高了聚焦精度，还减少误差，提升测量准确性。