一种光刻照明系统、方法及光刻机

本申请公开了一种光刻照明系统、方法及光刻机，涉及光刻技术领域，所述光刻照明系统包括：非对称分光器、监测器、曝光装置、预设光源以及控制器；通过非对称分光器将预设光分为传输至监测器的监测光以及传输至曝光装置的照明光，控制器可以通过监测器获取的监测光的光场分布来获取照明光的光场分布，从而达到监控的效果。同时控制器在判定照明光的光场分布出现异常时，可以自适应地调节预设光源输出的预设光对应的光源像素参数，以使产生的照明光继续实现匀光的效果。通过上述简单的结构实现光刻照明系统的匀光和监控的一体化，极大地降低了整个光刻照明系统的硬件结构复杂度，并减少了光源不稳定的情况对光刻照明系统造成的干扰。