用于处理足部的足底的装置和方法以及包括该装置的鞋

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用于处理足部的足底的装置和方法以及包括该装置的鞋
申请号:CN202411819902
申请日期:2024-12-11
公开号:CN120131426A
公开日期:2025-06-13
类型:发明专利
摘要
提供了一种处理足底的装置和方法及包括该装置的鞋。该装置包括用于接收足底的接收结构和配置为沿路径向足底施加压力的压力施加结构。路径在足底上从在第一足趾的近端趾骨和第二足趾的近端趾骨之间位于足部的远端处的第一端部延伸到位于足部的足跟处的第二端部。路径包括:第一段,开始于第一端部并在足底上沿第二足趾的跖趾关节的面向第一足趾的跖趾关节的边缘延伸到第二足趾的蚓状肌;第二部分,连接到第一段,并沿第二足趾的蚓状肌的面向第一足趾的拇屈肌的边缘延伸,穿过指长屈肌的肌腱,并终止于横向偏移到拇展肌和指长屈肌的肌腱的交叉点处的足底方肌上;第三段,连接到第二部分,并在足底上沿足底方肌的面向拇展肌的边缘延伸到第二端部。
技术关键词
肌腱 压力 关节 交叉点 机器学习模型 致动器 人机接口 涌泉穴 鞋底 取向 传感器 图像 电路 尺寸
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