拉晶过程中降低气孔片发生率的方法、单晶晶棒及应用

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拉晶过程中降低气孔片发生率的方法、单晶晶棒及应用
申请号:CN202411836730
申请日期:2024-12-13
公开号:CN119663418A
公开日期:2025-03-21
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种拉晶过程中降低气孔片发生率的方法、单晶晶棒及应用,涉及单晶拉晶技术领域,在装料过程中,将大尺寸硅料与小尺寸硅料以重量配比为0‑3:1‑4装填在石英坩埚中,降低硅料与硅料及硅料与石英坩埚之间的空隙,以降低气泡的产生量,使得拉晶过程中只有少量、甚至没有气泡凝固在单晶中,从而使得切片后有气孔的硅片减少,进而降低气孔片的发生率。
技术关键词
石英坩埚 大尺寸 单晶晶棒 拉晶技术 小尺寸 硅片 气泡 装料 空隙 切片 分层 芯片
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