一种单晶硅非球面镜片及其数控抛光工艺

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一种单晶硅非球面镜片及其数控抛光工艺
申请号:CN202411843889
申请日期:2024-12-14
公开号:CN119407617A
公开日期:2025-02-11
类型:发明专利
摘要
本申请涉及光学加工技术领域,提供了一种单晶硅非球面镜片及其数控抛光工艺,利用数控抛光机进行,包括粗抛、精抛、精修等主要步骤,并针对单晶硅的特性调整工艺参数,从而能够对直径320mm以下单晶硅非球面镜片进行抛光,借助数控抛光机床可以使优化前面型PV达到0.3μm以下,表面光洁度达到40/20,对320mm以上的单晶硅非球面镜片也具有借鉴意义。
技术关键词
非球面镜片 单晶硅 轮廓模型 抛光液 半成品 数控抛光机床 聚氨酯材料 图纸 抛光皮 工件 工装 抛光头 悬浮剂 二氧化硅 理论
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