一种片上计算型高光谱成像装置

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一种片上计算型高光谱成像装置
申请号:CN202411851575
申请日期:2024-12-16
公开号:CN119437430A
公开日期:2025-02-14
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种加工简单,成本低廉的片上计算型高光谱成像装置。改装置基于F‑P腔的片上计算型高光谱成像系统,可实现400~1000nm,间隔10nm的61通道高光谱图像重建。由于超表面和多层薄膜实现400~1000nm宽谱随机编码需要精心设计,实际加工与设计相差较大,且700~1000nm波动较小。为此,我们使用F‑P腔设计了四张波动性较大且相关性较小的滤光片组,并按照马赛克阵列方式(2×2)排布,实现片上的计算型高光谱成像系统。本发明的F‑P腔在非晶硅上依次镀Ti‑Ag‑Ti‑ZrO2‑Ti‑Ag‑Ti‑SiO2,其中Ti为5nm、Ag为15nm、SiO2为20nm、中间的ZrO2四个滤光片分别为1000、1050、1100、1150nm。其中,ZrO2只需将相同的掩模板移动三次,极大的减小了滤光片加工难度和时间。最后通过光谱重建算法实现400~1000nm,间隔10nm的61通道高光谱图像重建。
技术关键词
光谱成像装置 图像重建 马赛克阵列 光谱成像系统 滤光片 移动掩模 非晶硅 重建算法 多层薄膜 网络 超表面 通道 曲线 框架 光束 基底 水质 模板
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