含能自毁芯片的制备方法、含能自毁芯片及应用

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含能自毁芯片的制备方法、含能自毁芯片及应用
申请号:CN202411856412
申请日期:2024-12-17
公开号:CN119581419B
公开日期:2025-04-04
类型:发明专利
摘要
本申请涉及技术领域,具体而言,涉及一种含能自毁芯片的制备方法、含能自毁芯片及应用。所述含能自毁芯片的制备方法,包括:提供基座和芯片本体,所述基座具有相对的第一表面和第二表面;在所述第一表面形成沉槽;在所述沉槽内形成第一含能材料层;在所述第二表面形成半导体桥,所述半导体桥的加热部分与所述第一沉孔位置相对,所述半导体桥用于通电释放热量以引爆所述第一含能材料层;将所述第一表面与所述芯片本体贴合固定。根据上述方案制备的含能自毁芯片,可以改善现有含能自毁器件板级集成设计困难、激发引爆响应时间长和能耗高的问题。
技术关键词
自毁芯片 半导体 加热电极 沉孔 导电层 基座 超声波 存储设备 电阻 掩膜 镀膜 能耗 参数
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