一种低损伤溅射镀膜设备靶材结构

本发明涉及磁控溅射技术领域，且公开了一种低损伤溅射镀膜设备靶材结构，包括Wafer旋转机构和靶材承载机构，所述靶材承载机构包括用于放置靶材的靶材承载装置以及用于带动靶材承载装置在水平面上以固定轴心转动的驱动组件，所述驱动组件包括承重柱和水平旋转机械臂，所述水平旋转机械臂的两端通过旋转件分别与靶材承载装置和承重柱连接；所述旋转件包括机械臂旋转轴和旋转轴；所述机械臂旋转轴用于水平旋转机械臂与承重柱之间的连接；所述旋转轴用于靶材承载装置和水平旋转机械臂之间的连接；本发明通过对靶材旋转装置的具体设计，使其围绕Wafer做匀速圆周运动，膜层均匀性有很大提升，有效控制了膜层不均对器件的不良影响。