一种光刻工艺变更后匹配AEI的方法

本发明提供一种光刻工艺变更后匹配AEI的方法，包括：获取光刻工艺变更前的ADI与AEI以及光刻工艺变更后的ADI与AEI；将光刻工艺变更前后的ADI以及AEI相匹配获得光刻工艺变更后的ADI差值；采用插值法得到关于ADI差值与原始线宽以及原始间距之间关系的SSA表格。本发明通过获取光刻变更前后的ADI与AEI获得关于光刻工艺变更导致的ADI差值与原始线宽以及原始间距之间关系的SSA表格，根据该SSA表格可以得到任意原始线宽与原始间距所对应的ADI差值，从而得到与AEI相匹配的光刻工艺变更后的ADI，并无需再重建OPC模型，简化了修正流程，使得修正耗时降低。