基于插值射线的射线强度分析方法、系统、终端及计算机可读存储介质

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基于插值射线的射线强度分析方法、系统、终端及计算机可读存储介质
申请号:CN202411945050
申请日期:2024-12-27
公开号:CN119357527B
公开日期:2025-04-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于插值射线的射线强度分析方法、系统、终端及计算机可读存储介质,所述方法包括:对目标对象进行投影得到投影区域,根据投影区域,从雷达射线中筛选多个有效射线;获取每个有效射线的有效参数,并根据有效射线和有效参数,添加多个插值射线,获取每个插值射线的插值参数;根据每个插值参数,将初始有效强度分配到所有插值射线,得到插值后的射线的强度。本发明通过筛选有效射线,优化雷达射线,有效减少了射线追踪对计算资源的需求,大幅降低了射线强度计算的时间,同时在不增加计算量的情况下,对同一个目标表面上的原始射线进行离散处理,提高了射线束生成的分辨率。
技术关键词
强度分析方法 投影面 雷达 对象 参数 分析系统 可读存储介质 射线追踪算法 终端设备 计算机 处理器 射线束 存储器 分辨率 模块 关系
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