一种图形化复合衬底及其制备方法、LED芯片

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一种图形化复合衬底及其制备方法、LED芯片
申请号:CN202411946208
申请日期:2024-12-27
公开号:CN119767885A
公开日期:2025-04-04
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种图形化复合衬底及其制备方法、LED芯片。制备方法包括:提供蓝宝石衬底;在蓝宝石衬底上形成若干间隔排布的光刻胶凸起;对蓝宝石衬底进行刻蚀,使蓝宝石衬底在相邻的光刻胶凸起之间形成凹槽;在蓝宝石衬底上生长二氧化硅层;在二氧化硅层上形成若干间隔排布的光刻胶凸柱,且光刻胶凸柱与凹槽周期性交错排布;对蓝宝石衬底进行刻蚀,使凹槽外露,并使二氧化硅层在蓝宝石衬底表面形成凸起结构,以形成表面呈凸起结构与凹槽周期性交错排布的图形化复合衬底,且相邻凸起结构与凹槽之间设有间隔,制得的图形化复合衬底清晰度及精度更高,并且表面呈凸起结构与凹槽周期性间隔、交错排布,能够更有效地减少外延材料的位错和缺陷,提高外延材料的质量,提升发光效率。
技术关键词
图形化复合衬底 光刻胶图形 蓝宝石衬底表面 二氧化硅 蓝宝石衬底上生长 负光刻胶 刻蚀气体 凹槽 LED芯片 周期性间隔 外露 平铺 外延 涂覆 精度
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