摘要
本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种图形化复合衬底及其制备方法、LED芯片。制备方法包括:提供蓝宝石衬底;在蓝宝石衬底上形成若干间隔排布的光刻胶凸起;对蓝宝石衬底进行刻蚀,使蓝宝石衬底在相邻的光刻胶凸起之间形成凹槽;在蓝宝石衬底上生长二氧化硅层;在二氧化硅层上形成若干间隔排布的光刻胶凸柱,且光刻胶凸柱与凹槽周期性交错排布;对蓝宝石衬底进行刻蚀,使凹槽外露,并使二氧化硅层在蓝宝石衬底表面形成凸起结构,以形成表面呈凸起结构与凹槽周期性交错排布的图形化复合衬底,且相邻凸起结构与凹槽之间设有间隔,制得的图形化复合衬底清晰度及精度更高,并且表面呈凸起结构与凹槽周期性间隔、交错排布,能够更有效地减少外延材料的位错和缺陷,提高外延材料的质量,提升发光效率。
技术关键词
图形化复合衬底
光刻胶图形
蓝宝石衬底表面
二氧化硅
蓝宝石衬底上生长
负光刻胶
刻蚀气体
凹槽
LED芯片
周期性间隔
外露
平铺
外延
涂覆
精度
系统为您推荐了相关专利信息
光学集成芯片
偏振分束器
光学陀螺仪
光波导器件
相位调制器
发光二极管芯片
气相二氧化硅
单体
红光芯片
亮度