多孔径成像光学系统及其共相位校正方法

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多孔径成像光学系统及其共相位校正方法
申请号:CN202411966405
申请日期:2024-12-30
公开号:CN119376098B
公开日期:2025-04-01
类型:发明专利
摘要
本发明涉及多孔成像技术领域,尤其涉及一种多孔径成像光学系统及共相位校正方法,共相位校正方法包括:建立仿真模型,进行振动仿真分析,以得到第一仿真关系,进行振动实验,以得到第一实验关系,采用第一实验关系对第一仿真关系进行优化,以得到第一目标关系;实验获取共相位误差与图像退化值的第二实验关系,仿真获取共相位误差与图像退化值的第二仿真关系,采用第二实验关系对第二仿真关系进行优化,以得到第二目标关系;根据实际振动条件下的图像退化值得到实际振动参数,根据实际振动参数对共相位误差进行控制,以使多孔径成像光学系统的共相位误差小于预设值。本发明至少有利于降低振动对多孔径成像光学系统的成像造成的影响。
技术关键词
成像光学系统 相位校正方法 多孔径 相位误差 仿真模型 关系 相位控制单元 模拟退火优化算法 神经网络控制算法 仿真分析 多项式 校正算法 参数 PID控制算法 图像 群智能算法 光束 梯度下降算法 神经网络算法
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