光刻胶涂覆设备

一种光刻胶涂覆设备包括：工作台10，所述工作台10用于放置晶圆20并带动所述晶圆20旋转；出胶装置，所述出胶装置包括出胶棒30，所述出胶棒30位于所述工作台10上方，所述出胶棒30的长度方向平行于所述晶圆20的半径方向，所述出胶棒30上设置有若干个出胶孔31；刮板40，所述刮板40位于所述工作台10和所述出胶棒30之间，所述刮板40的长度方向平行于所述晶圆20的半径方向。本实用新型实施例提供的光刻胶涂覆设备，可以在晶圆上形成均匀的光刻胶层，有利于简化生产工艺、降低生产成本。